[发明专利]立方尖晶石结构CuGa2 有效
申请号: | 201910393812.X | 申请日: | 2019-05-13 |
公开(公告)号: | CN109943821B | 公开(公告)日: | 2021-09-03 |
发明(设计)人: | 郭道友;吴超;贺晨冉;王顺利;李培刚;唐为华 | 申请(专利权)人: | 唐为华 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/08;C23C14/58 |
代理公司: | 北京清诚知识产权代理有限公司 11691 | 代理人: | 乔东峰 |
地址: | 100088 北京市海*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: |
本发明公开了一种立方尖晶石结构CuGa |
||
搜索关键词: | 立方 尖晶石 结构 cuga base sub | ||
【主权项】:
1.一种立方尖晶石结构CuGa2O4薄膜的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:在衬底上生长掺铜的氧化镓薄膜;将所述掺铜的氧化镓薄膜进行退火,生成立方尖晶石结构CuGa2O4薄膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于唐为华,未经唐为华许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910393812.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类