[发明专利]一种晶圆表面颗粒清洗单旋喷嘴在审

专利信息
申请号: 201910397869.7 申请日: 2019-05-14
公开(公告)号: CN111952209A 公开(公告)日: 2020-11-17
发明(设计)人: 彭博;李檀 申请(专利权)人: 沈阳芯源微电子设备股份有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 代理人: 白振宇
地址: 110168 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明属于晶圆清洗领域,具体地说是一种晶圆表面颗粒清洗单旋喷嘴,喷嘴内芯上开设有液体通道,液体由液体通道的一端进入、由位于另一端的喷液口喷出;喷嘴内芯的一端插设于喷嘴外壳中,喷嘴外壳的一端与喷嘴内芯连接,另一端内部连接有喷嘴内塞,喷嘴内塞位于喷嘴外壳与喷嘴内芯之间;喷嘴内塞和喷嘴内芯之间以及喷嘴内塞和喷嘴外壳之间均留有供惰性气体流通的空间,喷嘴外壳上分别开设有与两个空间相连通的惰性气体进气口,喷嘴内塞上开设有布风孔,两个空间通过布风孔连通,两个空间内的惰性气体在布风孔内侧汇合。本发明通过改变惰性气体旋转方向及惰性气体加速度,同时配合清洗化学液流量,既对晶圆损伤小,又可以高效清洗晶圆。
搜索关键词: 一种 表面 颗粒 清洗 喷嘴
【主权项】:
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