[发明专利]同时具有给体和受体基团的高分子共价修饰的石墨烯材料及其制法和应用在审

专利信息
申请号: 201910402924.7 申请日: 2019-05-15
公开(公告)号: CN110171820A 公开(公告)日: 2019-08-27
发明(设计)人: 张斌;李东奇;樊菲;赵智峥;陈彧 申请(专利权)人: 华东理工大学
主分类号: C01B32/194 分类号: C01B32/194;H01L45/00
代理公司: 上海三和万国知识产权代理事务所(普通合伙) 31230 代理人: 任艳霞
地址: 200237 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明属于信息存储技术领域,具体涉及一种同时具有给体和受体基团的高分子共价修饰的石墨烯材料及其制法和应用。本发明还提供了基于石墨烯材料构造三态阻变存储器件的方法。本发明中器件由底电极,基于高分子修饰石墨烯材料的活性层以及顶点极构成,其中高分子具有给体和受体两种类型基团。对该存储器件施加不同的电压时,该器件表现出三种不同的电阻状态,具有存储功能。由于施加电压时存储器件表现为三种电阻态,相对于双稳态器件,该器件存储密度从2n提高到了3n,能够存储更多的信息。该器件具有良好的稳定性,制备过程简单,成本低,可大面积制备。
搜索关键词: 石墨烯材料 给体 存储器件 共价修饰 受体基团 制法 存储 信息存储技术 阻变存储器件 高分子修饰 双稳态器件 存储功能 电阻状态 施加电压 制备过程 底电极 电阻态 活性层 三态 制备 应用 表现 施加
【主权项】:
1.同时具有给体和受体基团的高分子共价修饰的石墨烯材料,其特征在于,结构式如下式复合材料RGO‑PDQ所示:R为高分子PDQ,n约为21。
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