[发明专利]一种擦拭装置、涂抹机构及设备在审

专利信息
申请号: 201910404842.6 申请日: 2019-05-16
公开(公告)号: CN109985838A 公开(公告)日: 2019-07-09
发明(设计)人: 甘松绍 申请(专利权)人: 中山易科特技术研发有限公司
主分类号: B08B1/00 分类号: B08B1/00
代理公司: 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 代理人: 汤东凤
地址: 528400 广东省中山市东区东苑*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种擦拭装置,包括驱动件、偏摆机构和活动板;驱动件用于驱动偏摆机构以带动活动板偏摆;偏摆机构具有至少两间隔设置的曲轴,至少两曲轴的一端由驱动件驱动转动以带动至少两曲轴的另一端同步同向循环或者往复偏摆,至少两曲轴的另一端用于带动活动板偏摆,各曲轴的另一端均偏向曲轴的同一侧;活动板的下端设置有用于对待擦拭面进行擦拭的擦拭盘;本发明提供的擦拭装置相对于直接移动擦拭盘进行擦拭而言,擦拭面更宽,擦拭效率更高;同时相对于仅通过一个转轴带动活动板而言稳定性更好,便于保证擦拭过程中擦拭盘与待擦拭面之间抵压力度均匀,从而有利于提高擦拭效率和使用效果。
搜索关键词: 曲轴 活动板 擦拭 擦拭装置 偏摆机构 擦拭面 擦拭盘 驱动件 偏摆 间隔设置 驱动转动 抵压力 同向 涂抹 下端 转轴 驱动 移动 保证
【主权项】:
1.一种擦拭装置,其特征在于,包括驱动件、偏摆机构和活动板;所述驱动件用于驱动所述偏摆机构以带动所述活动板偏摆;所述偏摆机构具有至少两间隔设置的曲轴,至少两所述曲轴的一端由所述驱动件驱动转动以带动至少两所述曲轴的另一端同步同向循环或者往复偏摆,至少两所述曲轴的另一端用于带动所述活动板偏摆,各所述曲轴的另一端均偏向所述曲轴的同一侧;所述活动板的下端设置有用于对待擦拭面进行擦拭的擦拭盘。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中山易科特技术研发有限公司,未经中山易科特技术研发有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910404842.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top