[发明专利]一种银基LOW-E膜面夹胶玻璃及制备方法有效
申请号: | 201910411832.5 | 申请日: | 2019-05-17 |
公开(公告)号: | CN110156350B | 公开(公告)日: | 2021-12-10 |
发明(设计)人: | 宋宇;熊建;蒲军;杨清华;江维 | 申请(专利权)人: | 咸宁南玻节能玻璃有限公司 |
主分类号: | C03C27/12 | 分类号: | C03C27/12;C03C17/36 |
代理公司: | 咸宁鸿信专利代理事务所(普通合伙) 42249 | 代理人: | 汪彩彩;阳会用 |
地址: | 437100 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明提供了一种银基LOW‑E膜面夹胶玻璃及制备方法,属于磁控溅射镀膜技术领域;本发明中,通过对夹胶玻璃的结构、镀膜层及磁控溅射工艺的优化设计,使生产出的LOW‑E夹胶玻璃镀膜层包裹于两片玻璃基片之间,从而避免镀膜层与空气接触,进而使其无需中空而直接使用;一种银基LOW‑E膜面夹胶玻璃,包括Low‑E玻璃单片、胶片和普通玻璃单片,Low‑E玻璃单片包括玻璃基片层和镀膜层,镀膜层自玻璃基片层向外依次复合有十一个膜层,其中第一层为SiNx层,第二层为ZnAl层,第三层为Ag层,第四层为NiCr层,第五层为AZO层,第六层为SiNx层,第七层为ZnAl层,第八层为Ag层,第九层为NiCr层,第十层为AZO层,第十一层为SiNx层。本发明玻璃具有透过率高、耐氧化、且无需中空可单片使用等优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 low 膜面夹胶 玻璃 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种银基LOW‑E膜面夹胶玻璃,其特征在于,本夹胶玻璃包括Low‑E玻璃单片(a)、胶片(b)和普通玻璃单片(c),所述Low‑E玻璃单片(a)包括玻璃基片层(G)和镀膜层,所述镀膜层自所述玻璃基片层(G)向外依次复合有十一个膜层,其中第一层(1)为SiNx层,第二层(2)为ZnAl层,第三层(3)为Ag层,第四层(4)为NiCr层,第五层(5)为AZO层,第六层(6)为SiNx层,第七层(7)为ZnAl层,第八层(8)为Ag层,第九层(9)为NiCr层,第十层(10)为AZO层,第十一层(11)为SiNx层。一种银基LOW‑E膜面夹胶玻璃,其特征在于,所述第一层(1)和第二层(2)为第一电介质组合层,所述第三层(3)为低辐射功能层,所述第四层(4)和第五层(5)为晶床介质层,所述第六层(6)和第七层(7)为第二电介质组合层,所述第八层(8)为低辐射功能层,所述第九层(9)为晶床介质,所述第十层(10)和第十一层(11)为阻挡保护层。一种银基LOW‑E膜面夹胶玻璃的制备方法,其特征在于,本方法包括如下步骤:1)、Low‑E玻璃原片的制备即磁控溅射镀膜层:A、磁控溅射第一层(1):靶材数量:交流旋转靶3~4个;靶材配置为硅铝(SiAl);工艺气体比例:氩气和氮气,氩气和氮气的比例为1:1.14,溅射气压为3~5×10‑3mbar;镀膜厚度为20~28nm;B、磁控溅射第二层(2):靶材数量:交流旋转靶1~2个;靶材配置为锌铝(ZnAl);工艺气体比例:氩气和氧气,氩气和氧气的比例为1:2,溅射气压为3~5×10‑3mbar;镀膜厚度为17~19nm;C、磁控溅射第三层(3):靶材数量:交流旋转靶1个;靶材配置为银(Ag);工艺气体比例:纯氩气,溅射气压为2~3×10‑3mbar;镀膜厚度为1.0~3.3nm;D、磁控溅射第四层(4):靶材数量:交流旋转靶1个;靶材配置为镍铬(NiCr);工艺气体:纯氩气,溅射气压为2~3×10‑3mbar;镀膜厚度为1.0~1.3nm;E、磁控溅射第五层(5):靶材数量:交流旋转靶1个;靶材配置为氧化锌铝(AZO);工艺气体:纯氩气,溅射气压为2~3×10‑3mbar;镀膜厚度为7~9nm;F、磁控溅射第六层(6):靶材数量:交流旋转靶3~5个;靶材配置为硅铝(SiAl);工艺气体比例:氩气和氮气,氩气和氮气的比例为1:1.14,溅射气压为3~5×10‑3mbar;镀膜厚度为38~42nm;G、磁控溅射第七层(7):靶材数量:交流旋转靶2~3个;靶材配置为锌锡(ZnSn);工艺气体比例:氩气和氧气,氩气和氧气的比例为1:2,溅射气压为3~5×10‑3mbar;镀膜厚度为16~20nm;H、磁控溅射第八层(8):靶材数量:交流旋转靶1个;靶材配置为银(Ag);工艺气体比例:,纯氩气,溅射气压为2~3×10‑3mbar;镀膜厚度为11.5~12nm;I、磁控溅射第九层(9):靶材数量:交流旋转靶1个;靶材配置为镍铬(NiCr);工艺气体比例:纯氩气,溅射气压为2~3×10‑3mbar;镀膜厚度为4~4.5nm;J、磁控溅射第十层(10):靶材数量:交流旋转靶4~6个;靶材配置为硅铝(SiAl);工艺气体比:纯氩气,溅射气压为2~3×10‑3mbar;镀膜厚度为7.5~8.0nm;K、磁控溅射第十一层(11):靶材数量:交流旋转靶1个;靶材配置为锌锡(ZnSn);工艺气体:氩气和氮气,氩气和氮气的比例为1:1.14,溅射气压为,3~5×10‑3mbar;镀膜厚度为52~60nm;镀膜层总厚度控制在175‑212nm之间,溅射室传动走速控制在4.0‑6.0m/min;2)、玻璃裁切及磨边:将步骤1)中获得的LOW‑E玻璃原片和普通玻璃原片分别进行切割、磨边处理,以获得LOW‑E玻璃单片(a)及普通玻璃单片(c);3)、玻璃清洗及干燥:用去离子水对将步骤2)中获得的LOW‑E玻璃单片(a)及普通玻璃单片(c)分别清洗干净,并分别对进行干燥;用去离子水清洗的玻璃和胶片(b)的黏结力比用自来水清洗的玻璃黏结力高;水温最好大于55℃,以保证清洗的效果。4)、胶片裁切:从包装箱中取出胶片(b),沿原始密封线内侧用锋利的小刀割开密封袋,戴上不起毛的手套,搬起上层胶片(b)并轻轻抖动,然后轻轻将胶片(b)取出;如一次用不完,需要对包装袋进行密封,密封前将内部的空气排出并折叠多余的密封袋,用防水铅箔胶带或热封机完全密封住结合线部分;接着根据步骤A中得到的玻璃单片的尺寸,使用锋利的小刀对胶片(b)进行裁切,即使用尺子作为模板进行裁切以保证得到正确的尺寸,用锋利的小刀沿模板的边沿划痕;如果需要弯曲或不规则的形状,可以采用切割好形状的平板玻璃作为模板;切割后沿切割轮廓线划痕折叠胶片(b)并撕开或折断胶片(b);切割后用无尘布或专用粘辊将边沿表面的碎屑清除;5)合片:夹胶玻璃的合片需在合片室内完成,合片开始前应先调整好合片室的温度及湿度(温度为25℃左右,湿度在20%左右),然后于操作台上平稳放置好步骤3)中获得的普通玻璃单片(c),接着将步骤4)中获得胶片(b)于普通玻璃单片(c)上铺开展平,最后放上LOW‑E玻璃单片(a),并使LOW‑E玻璃单片(a)的镀膜面朝下紧贴胶片(b),且普通玻璃单片(c)、LOW‑E玻璃单片(a)以及胶片(b)堆叠整齐;6)、预压排气:将步骤5)所得的夹胶玻璃平稳地输送至滚压设备内进行预压排气作业;在滚压设备中,夹胶玻璃将先进行预热,预热温度应控制在68℃左右,预热好后再进入对压辊中滚压,对压辊的间隙应比夹胶玻璃的厚度小3mm左右;7)、包装烧釜:多次重复进行步骤1)到步骤6),获得多片夹胶玻璃;然后将这些夹胶玻璃每两到三片为一组堆叠整齐,并分别装入耐高温高压的真空袋中,进行抽真空后包裹起来;接着,将各组夹胶玻璃一起纵向切斜码放于插架上,且每组玻璃之间用垫块加以隔开(相邻两组夹胶玻璃之间的间隔应不小于20mmm);最后,将码放好的夹胶玻璃送入高压釜中进行烧釜。
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