[发明专利]一种抗静电的宽带高透射减反射膜有效
申请号: | 201910412625.1 | 申请日: | 2019-05-17 |
公开(公告)号: | CN110068879B | 公开(公告)日: | 2022-10-18 |
发明(设计)人: | 金波;艾曼灵;吴江波;顾培夫;李冰霞 | 申请(专利权)人: | 杭州科汀光学技术有限公司 |
主分类号: | G02B1/116 | 分类号: | G02B1/116;G02B1/00;G02B1/04 |
代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人: | 陈升华 |
地址: | 311100 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种抗静电的宽带高透射减反射膜,包括基底以及设置在所述基底上的多层膜;所述的多层膜包括一层透明导电膜以及高折射率电介质膜、中间折射率电介质膜、次低折射率电介质膜和低折射率电介质膜,或者,所述的多层膜包括一层透明导电膜以及高折射率电介质膜、中间折射率电介质膜和低折射率电介质膜;所述的透明导电膜为半导体薄膜,为氧化铟膜、氧化锡膜,氧化锌膜或铟锡氧化物膜等。这种可见区的减反射膜不仅具有很好的抗静电功能,而且具有很高的透射率,在投影显示等光学、光电仪器中具有重要的应用价值。 | ||
搜索关键词: | 一种 抗静电 宽带 透射 减反射膜 | ||
【主权项】:
1.一种抗静电的宽带高透射减反射膜,包括基底以及设置在所述基底上的多层膜;其特征在于,所述的多层膜包括一层透明导电膜以及高折射率电介质膜、中间折射率电介质膜、次低折射率电介质膜和低折射率电介质膜,或者,所述的多层膜包括一层透明导电膜以及高折射率电介质膜、中间折射率电介质膜和低折射率电介质膜;所述的透明导电膜为氧化铟膜、氧化锡膜,氧化锌膜或铟锡氧化物膜。
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