[发明专利]金属互连结构及其形成方法在审
| 申请号： | 201910413328.9 | 申请日： | 2019-05-17 |
| 公开（公告）号： | CN110112096A | 公开（公告）日： | 2019-08-09 |
| 发明（设计）人： | 孙祥烈;吕术亮;马亮;李远;黄驰;万先进 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | H01L21/768 | 分类号： | H01L21/768;H01L23/532;H01L23/538 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 骆希聪 |
| 地址： | 430205 湖北省武汉市洪山区东*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种形成金属互连结构的方法，包括以下步骤：沉积第一金属层；在第一金属层的连接区沉积氮化钽层，并使氮化钽层的表面上的至少部分氮化钽为体心立方结构；在氮化钽层的表面沉积钽层，钽层中的金属钽为α相钽；以及在钽层上沉积第二金属层。 | ||
| 搜索关键词： | 氮化钽层 钽层 沉积 金属互连结构 第一金属层 体心立方结构 第二金属层 表面沉积 氮化钽 金属钽 连接区 | ||
【主权项】：
1.一种形成金属互连结构的方法，包括以下步骤：沉积第一金属层；在所述第一金属层的连接区沉积氮化钽层，并使所述氮化钽层的表面上的至少部分氮化钽为体心立方结构；在所述氮化钽层的表面沉积钽层，所述钽层中的金属钽为α相钽；以及在所述钽层上沉积第二金属层。
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H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
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