[发明专利]一种巨介电薄膜晶体管在审
申请号: | 201910414063.4 | 申请日: | 2019-05-17 |
公开(公告)号: | CN110148632A | 公开(公告)日: | 2019-08-20 |
发明(设计)人: | 兰林锋;陈卓;彭俊彪 | 申请(专利权)人: | 华南理工大学 |
主分类号: | H01L29/786 | 分类号: | H01L29/786;H01L29/51 |
代理公司: | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人: | 赵蕊红 |
地址: | 510640 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种巨介电薄膜晶体管,设置有栅极和半导体以及位于栅极和半导体层之间的栅绝缘层。所述栅绝缘层为采用巨介电材料作为栅绝缘层。巨介电材料处于陶瓷块状态时,在频率1kHz下相对介电常数大于10000,巨介电材料处于薄膜状态时,在1kHz下相对介电常数大于500。所述巨介电材料为非铁电陶瓷材料。与离子双电层作为TFT的栅绝缘层相比,本发明的巨介电薄膜晶体管具有频率响应好的优势,反相器频率响应大于500Hz,并且低耗电路,因此在显示器领域中具有良好的应用潜力。同时本发明的巨介电薄膜晶体管采用为非铁电材料制备而成,因此无迟滞现象。 | ||
搜索关键词: | 巨介电材料 介电薄膜 栅绝缘层 晶体管 相对介电常数 频率响应 非铁 电陶瓷材料 半导体层 薄膜状态 应用潜力 电材料 反相器 双电层 陶瓷块 状态时 迟滞 制备 显示器 半导体 离子 电路 | ||
【主权项】:
1.一种巨介电薄膜晶体管,其特征在于:设置有栅极和半导体以及位于栅极和半导体层之间的栅绝缘层;所述栅绝缘层采用巨介电材料作为栅绝缘层;巨介电材料处于陶瓷块状态时,在频率1kHz下相对介电常数大于10000,巨介电材料处于薄膜状态时,在1kHz下相对介电常数大于500;所述巨介电材料为非铁电陶瓷材料。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华南理工大学,未经华南理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910414063.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:显示面板及其制作方法以及显示装置
- 下一篇:整流二极管
- 同类专利
- 专利分类