[发明专利]一种应用于双光束激光的光刻胶在审
| 申请号： | 201910415066.X | 申请日： | 2019-05-17 |
| 公开（公告）号： | CN110275393A | 公开（公告）日： | 2019-09-24 |
| 发明（设计）人： | 甘棕松;刘亚男;骆志军 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/027 |
| 代理公司： | 武汉智嘉联合知识产权代理事务所(普通合伙) 42231 | 代理人： | 黄君军 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种应用于双光束激光的光刻胶，其特征在于，包括光引发剂、光抑制剂和单体，以各组分占光刻胶的摩尔量计，光引发剂为0.1％～5％，光抑制剂为0.1％～2％，单体为93％～99.8％。本发明通过采用IRGACURE类光引发剂和秋兰姆类的光抑制剂，使所制光刻胶呈无色透明状，避免了现有技术中光刻胶颜色存在不必要光吸收的问题；同时，在双光束激光对该光刻胶进行照射时，避免了光引发剂和光抑制剂交叉吸收的问题，使双光束激光直写的分辨率得到提高。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻胶 双光束激光 光抑制剂 光引发剂 无色透明状 光吸收 分辨率 直写 应用 照射 吸收 | ||
【主权项】：
1.一种应用于双光束激光的光刻胶，其特征在于，包括光引发剂、光抑制剂和单体，以各组分占光刻胶的摩尔量计，光引发剂为0.1％～5％，光抑制剂为0.1％～2％，单体为93％～99.8％。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华中科技大学，未经华中科技大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910415066.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
