[发明专利]一种硒化锡薄膜的制备方法在审
| 申请号： | 201910420412.3 | 申请日： | 2019-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN110117769A | 公开（公告）日： | 2019-08-13 |
| 发明（设计）人： | 丁利苹;杨林泰;张方辉;代康 | 申请（专利权）人： | 陕西科技大学 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/24 |
| 代理公司： | 西安铭泽知识产权代理事务所(普通合伙) 61223 | 代理人： | 俞晓明 |
| 地址： | 710021 陕西省*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种硒化锡薄膜的制备方法，包括以下步骤：将锡原料和硒原料置于不同的反应舟中，再将反应舟和基片置于真空镀膜机内，挡板复位遮住两个反应舟；将真空镀膜机内温度升至685‑750℃，打开遮住硒反应舟的挡板，使硒原料蒸发到基片上形成硒膜，复位硒反应舟的挡板；将真空镀膜机内温度升至2000‑2500℃，打开遮住锡反应舟的挡板，使锡原料蒸发到硒膜上形成锡膜，复位锡反应舟挡板；重复上述过程，直至基片上形成的硒膜和锡膜的总厚度达到18‑22nm时即得到硒化锡薄膜。本发明直接用硒和锡原料通过蒸镀法制备硒化锡薄膜，没有使用任何化学还原剂，安全环保，制备工艺路线简易，具备广泛的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 反应舟 挡板 锡薄膜 硒化 锡原料 复位 硒膜 遮住 真空镀膜机 锡膜 制备 蒸发 基片置于真空 制备工艺路线 化学还原剂 安全环保 镀膜机 蒸镀 简易 重复 应用 | ||
【主权项】：
1.一种硒化锡薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1，将基片置于真空镀膜机内，然后将锡原料和硒原料按照1：1‑2的质量比单独置于不同的反应舟中，再将反应舟置于真空镀膜机内，并使挡板复位遮住两个所述反应舟；步骤2，在1×10‑2‑1×10‑3Pa的真空度下，将真空镀膜机内温度升至685‑750℃，打开遮住硒反应舟的挡板，使硒原料蒸发到基片上形成硒膜，当硒膜厚度达到4‑6nm时，复位硒反应舟的挡板；将真空镀膜机内温度升至2000‑2500℃，打开遮住锡反应舟的挡板，使锡原料蒸发到硒膜上形成锡膜，当硒膜和锡膜的总厚度达到9‑12nm时，停止加热，复位锡反应舟挡板；步骤3，重复步骤2的过程，直至基片上形成的硒膜和锡膜的总厚度达到18‑22nm时即得到所述硒化锡薄膜。
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