[发明专利]用于借助于转换模型分析光刻工艺的元件的装置及方法有效
| 申请号： | 201910421175.2 | 申请日： | 2019-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN110501880B | 公开（公告）日： | 2022-05-31 |
| 发明（设计）人： | A.弗赖塔格;C.胡斯曼;D.塞德尔;C.施密特;T.谢鲁布尔 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G16Z99/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明关于用于分析光刻工艺的元件(470)的装置(500)，该装置包含：(a)用于记录元件(470)的第一数据(230)的第一测量装置(500、510、560)；以及(b)用于将第一数据(230)转换为第二非测量数据(250)的构件，该第二非测量数据对应于使用第二测量装置(400)对元件(470)进行测量的测量数据(420)；以及(c)其中构件包含转换模型(200)，其已使用用于训练目的的多个第一数据(235)以及与其对应的链接至第二测量装置(400)的第二数据(265)进行训练。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 借助于 转换 模型 分析 光刻 工艺 元件 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于分析光刻工艺的元件(470)的装置(500)，包含：/na.第一测量装置(500、510、560)，用于记录该元件(470)的第一数据(230)；以及/nb.用于将该第一数据(230)转换为第二非测量数据(250)的构件，该第二非测量数据对应于使用第二测量装置(400)对该元件(470)进行测量的测量数据(420)，其中该第二测量装置(400)包含来自以下组的至少一个元件：扫描粒子显微镜(510)和/或光学测量工具；/nc.其中该构件包含转换模型(200)，其已使用用于训练目的的多个第一数据(235)以及与其对应的第二数据(265)进行训练，该第二数据链接至该第二测量装置(400)。/n
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