[发明专利]一种餐具的加工工艺及餐具在审
| 申请号： | 201910422261.5 | 申请日： | 2019-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN110106486A | 公开（公告）日： | 2019-08-09 |
| 发明（设计）人： | 唐习然 | 申请（专利权）人： | 沙伯特（中山）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/20;C23C14/16;C23C16/40;C23C28/00 |
| 代理公司： | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人： | 何锦明 |
| 地址： | 528400 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种餐具的加工工艺及餐具，所述餐具的加工工艺包括以下步骤：(1)基材处理工序：离子清洗基材，时间为175‑185s；(2)底层处理工序：将基材安装在挂具上送入真空炉内，抽真空至8×10‑3Pa以上，通过磁控溅射工艺在基材的外表面镀底层，时间为120‑140s，其中挂具正反转各一半时间，通入氩气，并将工作气压控制在0.12‑0.15Pa，靶材电流为34‑36A；(3)着色层处理工序：通过磁控溅射工艺在底层的上表面镀着色层，时间为120‑140s，其中挂具正反转各一半时间，通入氩气，并将工作气压控制在0.12‑0.15Pa，靶材电流为37‑39A；(4)保护层处理工序：通过化学沉积离化工艺在着色层的上表面镀保护层，时间为120‑200s，其中挂具正反转各一半时间，通入氧气，并将工作气压控制在1.8‑2.8Pa，靶材电流为1.5‑2.5A。 | ||
| 搜索关键词： | 餐具 挂具 工作气压 正反转 着色层 靶材 基材 磁控溅射工艺 氩气 处理工序 上表面 底层处理工序 镀保护层 化学沉积 基材处理 离子清洗 保护层 抽真空 真空炉 离化 氧气 送入 | ||
【主权项】：
1.一种餐具的加工工艺，其特征在于，包括以下步骤：(1)基材处理工序：离子清洗基材，时间为175‑185s；(2)底层处理工序：将基材安装在挂具上送入真空炉内，抽真空至8×10‑3Pa以上，通过磁控溅射工艺在基材的外表面镀底层，时间为120‑140s，其中挂具正反转各一半时间，通入氩气，并将工作气压控制在0.12‑0.15Pa，靶材电流为34‑36A；(3)着色层处理工序：通过磁控溅射工艺在底层的上表面镀着色层，时间为120‑140s，其中挂具正反转各一半时间，通入氩气，并将工作气压控制在0.12‑0.15Pa，靶材电流为37‑39A；(4)保护层处理工序：通过化学沉积离化工艺在着色层的上表面镀保护层，时间为120‑200s，其中挂具正反转各一半时间，通入氧气，并将工作气压控制在1.8‑2.8Pa，靶材电流为1.5‑2.5A。
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