[发明专利]噻吩并吡啶离子化合物及其制备方法在审
| 申请号： | 201910424905.4 | 申请日： | 2019-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN110330507A | 公开（公告）日： | 2019-10-15 |
| 发明（设计）人： | 代佳;赵可清;赵可孝;胡平;汪必琴 | 申请（专利权）人： | 四川师范大学 |
| 主分类号： | C07D495/04 | 分类号： | C07D495/04;C09K19/34;C09K11/06 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610066 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种噻吩并吡啶离子化合物。该类化合物具有液晶性能，其液晶温度范围较宽，且有的化合物为室温液晶，热稳定性良好，在液晶材料领域有潜在的应用前景。该类化合物具有发光性能，在光学材料领域有潜在的应用前景。该类化合物中有的化合物在室温下为离子液体，在反应溶剂等领域有潜在的应用前景。本发明还公开了该类噻吩并吡啶离子液晶化合物的制备方法。 | ||
| 搜索关键词： | 噻吩并吡啶 潜在的 液晶 离子化合物 制备 应用 发光性能 反应溶剂 光学材料 离子液晶 离子液体 热稳定性 液晶材料 | ||
【主权项】：
1.一种噻吩并吡啶离子化合物，具有下述通式I的结构，通式I中，R=CnH2n+1，n=9，10，11，R1=CnH2nCmF2m+1， n=2，3，4，m=5，6，7，X为无机阴离子或者有机阴离子，如无机阴离子：F‑，Cl‑，Br‑，I‑，NO3‑，BF4‑，PF6‑，SO4‑，H2PO4‑，ClO4‑，SCN‑，AsF6‑，有机阴离子：![]()
其中通式I中，无机阴离子优选：Br‑，I‑，NO3‑，BF4‑，PF6‑，有机阴离子优选：![]()
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