[发明专利]X射线源扫描参数调节方法、装置、计算机设备及可读存储介质在审
| 申请号： | 201910425379.3 | 申请日： | 2019-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN110215225A | 公开（公告）日： | 2019-09-10 |
| 发明（设计）人： | 祝国平;董斌;张铁山;吴景林;褚旭 | 申请（专利权）人： | 上海联影医疗科技有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/03 | 分类号： | A61B6/03 |
| 代理公司： | 杭州华进联浙知识产权代理有限公司 33250 | 代理人： | 雷志刚 |
| 地址： | 201807 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种X射线源扫描参数调节方法，所述方法包括：获取X射线源扫描参数，所述X射线源扫描参数包括靶盘的旋转周期及X射线源的能量周期；确定所述旋转周期与能量周期的比值；若所述比值不满足预设条件，则调节所述X射线源扫描参数，以使所述比值满足所述预设条件；所述预设条件为第一预设条件或第二预设条件，所述第一预设条件为所述旋转周期与能量周期的比值不等于整数，所述第二预设条件为所述旋转周期与能量周期的比值等于半整数。本发明提供的X射线源扫描参数调节方法，通过调节阳极靶盘旋转周期与X射线源能量周期，使得阳极靶盘旋转周期不为X射线源能量周期的整数倍，从而避免“阳极靶盘能量拍频现象”的出现，降低阳极靶盘的热致变形，提升阳极靶盘的寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 预设条件 能量周期 扫描参数 阳极靶 旋转周期 盘旋 可读存储介质 计算机设备 整数倍 靶盘 拍频 变形 | ||
【主权项】：
1.一种X射线源扫描参数调节方法，其特征在于，所述方法包括：获取X射线源扫描参数，所述X射线源扫描参数包括靶盘的旋转周期及X射线源的能量周期；确定所述旋转周期与能量周期的比值；若所述比值不满足预设条件，则调节所述X射线源扫描参数，以使所述比值满足所述预设条件；所述预设条件为第一预设条件或第二预设条件，所述第一预设条件为所述旋转周期与能量周期的比值不等于整数，所述第二预设条件为所述旋转周期与能量周期的比值等于半整数。
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