[发明专利]一种防眩光玻璃的制备方法有效

专利信息
申请号: 201910426741.9 申请日: 2019-05-22
公开(公告)号: CN110228950B 公开(公告)日: 2021-12-03
发明(设计)人: 胡云慧;杨红斌;刘印;虢晓双;隆祖亿;彭传才 申请(专利权)人: 湖南天羿领航科技有限公司
主分类号: C03C15/00 分类号: C03C15/00;C08J7/12;G03F7/11;G03F7/20;G03F1/00;C08L67/02;C08L33/12;C08L69/00
代理公司: 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 代理人: 朱伟雄
地址: 410100 湖南省长沙市*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明公开了一种防眩光玻璃的制备方法,包括:S1、在玻璃基底的结构面上形成图形化的第一光刻胶层;S2、以第一光刻胶层为掩膜,通过第一湿法腐蚀将玻璃基底刻蚀至给定深度;S3、除去第一光刻胶层,得到结构面具有凸起阵列的玻璃基底;S4、在玻璃基底的结构面上形成图形化的第二光刻胶层;S5、以第二光刻胶层为掩膜,对玻璃基底进行第二湿法腐蚀,在玻璃基底结构面上形成凹槽阵列;S6、将经第二湿法腐蚀的玻璃基底进行清洗,并去除第二光刻胶层,即得防眩光玻璃。本方法简单可控、工艺稳定性好,制备的防眩光玻璃表面微观平整度好、透光率高、反射率低、光泽度高、性能参数稳定、且拥有等同于玻璃材料的良好性能。
搜索关键词: 一种 眩光 玻璃 制备 方法
【主权项】:
1.一种防眩光玻璃的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:S1、在经清洗的玻璃基底表面上形成图形化的第一光刻胶层;S2、以图形化的第一光刻胶层为掩膜,通过第一湿法腐蚀将所述玻璃基底刻蚀至给定深度;S3、将经刻蚀的玻璃基底进行清洗,除去所述第一光刻胶层,得到表面具有凸起阵列的玻璃基底;S4、将步骤S3所得的玻璃基底再次进行清洗,然后在玻璃基底的表面上形成图形化的第二光刻胶层;S5、以图形化的第二光刻胶层为掩膜,对玻璃基底进行第二湿法腐蚀,在玻璃基底结构面上形成凹槽阵列;S6、将经第二湿法腐蚀的玻璃基底进行清洗,并去除所述第二光刻胶层,即得玻璃基底表面凸起阵列和凹槽阵列相间布置的防眩光玻璃。
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