[发明专利]彩膜曝光机在审
申请号: | 201910427169.8 | 申请日: | 2019-05-22 |
公开(公告)号: | CN110058498A | 公开(公告)日: | 2019-07-26 |
发明(设计)人: | 张静 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黄威 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供一种彩膜曝光机,该彩膜曝光机包括承载机台、传送构件、异物检测构件、搬运构件、曝光构件、温度调控构件,承载机台用于承载彩膜基板,传送构件用于传送彩膜基板,异物检测构件用于检测彩膜基板上的异物,搬运构件从异物检测构件搬运彩膜基板到曝光构件,温度调控构件包括温控管道,温控管道至少设置在搬运构件设置区;在彩膜曝光机工作时,温度调控构件通过温控管道调控搬运构件处的温度,解决了现有技术存在搬运构件处的温度调节不佳的技术问题。 | ||
搜索关键词: | 搬运构件 彩膜基板 曝光机 彩膜 温度调控 温控管道 异物检测 机台 传送构件 曝光构件 承载 温度调节 设置区 异物 搬运 传送 调控 检测 | ||
【主权项】:
1.一种彩膜曝光机,其特征在于,包括:承载机台,用于承载彩膜基板;传送构件,用于传送彩膜基板;异物检测构件,用于检测彩膜基板上的异物;搬运构件,用于从异物检测构件搬运彩膜基板到曝光构件;曝光构件;温度调控构件,包括温控管道,所述温控管道至少设置在搬运构件设置区。
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