[发明专利]样品分析系统

摘要

提供的是一种用于从使用包括从荧光X射线分析仪，原子吸收光度计和电感耦合等离子体发射分析仪中选择的至少一个装置以及从红外分光光度计和拉曼分光光度计中选择的至少一个装置的多个分析装置获取的目标样品的测定数据识别目标样品的样品分析系统。该系统包括：用于保存使用分析装置对于每个参照物获取的测定数据的存储部；用于对于每个分析装置，比较目标样品的测定数据与参照物的测定数据并且用于确定目标样品与每个参照物的匹配度的测定数据比对部；用于从对于分析装置确定的匹配度计算综合匹配度的综合匹配度计算部；以及用于输出关于以综合匹配度的递减次序的预定数目的参照物的信息的比对结果输出部。

主权项

1.一种样品分析系统，其特征在于，所述样品分析系统用于从使用多个分析装置获取的目标样品的测定数据来识别所述目标样品，所述多个分析装置包括从荧光X射线分析仪，原子吸收光度计和电感耦合等离子体发射分析仪中选择的至少一个装置，以及从红外分光光度计和拉曼分光光度计中选择的至少一个装置，所述系统包含：a)存储部，使用每一个所述分析装置对于多个参照物中的每一个参照物所获取的测定数据被存储在所述存储部中；b)测定数据比对部，所述测定数据比对部用于对于每一个所述分析装置，比较所述目标样品的所述测定数据与所述多个参照物的所述测定数据，并且用于确定所述目标样品与所述多个参照物中的每一个参照物的匹配度；c)综合匹配度计算部，所述综合匹配度计算部用于通过综合对于所述多个分析装置确定的所述匹配度来对于所述多个参照物中的每一个参照物，计算综合匹配度；以及d)比对结果输出部，所述比对结果输出部用于输出关于以所述综合匹配度的递减次序的预定数目的所述参照物的信息；其中，所述多个分析装置包括荧光X射线分析仪；所述系统进一步包括：e)散射线强度比计算部，所述散射线强度比计算部用于从使用所述荧光X射线分析仪获取的所述目标样品的所述测定数据来计算康普顿散射线和瑞利散射线之间的强度比；和f)系数决定部，所述系数决定部用于基于所述强度比确定系数，所述系数用于加权与所述荧光X射线分析仪和所述红外分光光度计或者所述拉曼分光光度计相关的所述匹配度，以及所述综合匹配度计算部在将所述系数应用至与所述荧光X射线分析仪和所述红外分光光度计或者所述拉曼分光光度计相关的所述匹配度之后，计算所述综合匹配度。