[发明专利]扩大用于横向电流传导的肖特基二极管横截面积的植入物在审

专利信息
申请号: 201910428790.6 申请日: 2019-05-22
公开(公告)号: CN110634859A 公开(公告)日: 2019-12-31
发明(设计)人: 邓汉威;S.达斯古普塔;M.拉多萨夫尔杰维奇;P.费希尔;W.哈菲斯 申请(专利权)人: 英特尔公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L29/06;H01L29/872;H01L21/329
代理公司: 72001 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 张凌苗;闫小龙
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 扩大用于横向电流传导的肖特基二极管横截面积的植入物。公开了一种半导体器件。该半导体器件包括衬底,在衬底上方的外延层,在外延层上的肖特基势垒材料,延伸到肖特基势垒材料中的肖特基金属接触,在第一方向上延伸的鳍状物结构,具有与第一方向正交的取向的鳍状物结构的第一侧中的第一成角度的植入物,和具有与第一方向正交的取向的鳍状物结构的第二侧中的第二成角度的植入物。第二侧与第一侧相对。第一阴极区和第二阴极区通过在第一方向上延伸的第一成角度的植入物和第二成角度的植入物的部分耦合。
搜索关键词: 植入物 鳍状物 半导体器件 肖特基势垒 方向正交 外延层 阴极区 衬底 取向 延伸 肖特基二极管 横向电流 金属接触 耦合 肖特基 传导
【主权项】:
1.一种半导体器件,其包括:/n衬底;/n在衬底上方的外延层;/n在外延层上的肖特基势垒材料;/n延伸到肖特基势垒材料中的肖特基金属接触;/n在第一方向上延伸的鳍状物结构;/n具有与第一方向正交的取向的鳍状物结构的第一侧中的第一成角度的植入物;/n具有与第一方向正交的取向的鳍状物结构的第二侧中的第二成角度的植入物,第二侧与第一侧相对;以及/n第一阴极区和第二阴极区,通过在第一方向上延伸的第一成角度的植入物和第二成角度的植入物的部分耦合。/n
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