[发明专利]一种高熵非晶薄膜及制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 201910429354.0 申请日: 2019-05-22
公开(公告)号: CN110106473B 公开(公告)日: 2021-05-18
发明(设计)人: 王泽;姚远远;彭涛;仇建国;吴建珍;杨桂东;杨晓红;李小平;卢雅琳;雷卫宁;孙志娟;叶霞 申请(专利权)人: 江苏理工学院
主分类号: C23C14/16 分类号: C23C14/16;C23C14/35
代理公司: 常州佰业腾飞专利代理事务所(普通合伙) 32231 代理人: 王巍巍
地址: 213001 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明通过在等原子比的CoCrFeMnNi中引入非金属元素N,磁控溅射法制得了化学组成及原子比为CoCrFeMnNiN(0.35~0.75)的高熵合金薄膜,通过本发明方法制得的高熵合金薄膜为非晶态结构,其硬度值可达14~18GPa,弹性模量可达170~190GPa,疲劳寿命大于12×104周次;制备的高熵非晶薄膜分别在36~38%浓盐酸(wt%)和98%浓硫酸(wt%)浸泡180天表面无变化;引入N元素后不仅使硬度、弹性模量和疲劳寿命在一定程度上提高,还具有很好的耐腐蚀性,能够应用于工业设备特别是盐酸合成炉设备的零部件表面。
搜索关键词: 一种 高熵非晶 薄膜 制备 方法 应用
【主权项】:
1.一种高熵非晶薄膜,其特征在于,以等原子比的CoCrFeMnNi合金为靶材,通过磁控溅射引入非金属元素N,得到了化学组成及Co、Cr、Fe、Mn、Ni、N元素原子比为1:1:1:1:1:(0.35~0.75)的CoCrFeMnNiN(0.35~0.75)高熵合金薄膜,所述高熵合金薄膜是非晶态结构的高熵非晶薄膜。
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