[发明专利]含硫单分子树脂及其光刻胶组合物

摘要

一种如下式(I)所示的化合物，其中R0，Ra1～Ra12相同或不同，各自独立地表示H、羟基、或ORb，Rb为具有酸敏感性的基团，条件是上述基团R0、Ra1～Ra12中至少有一个不为H。式(I)所示化合物具有确定的分子结构，分子尺寸小且单一，可以用作光刻胶材料，在使用过程中可以根据光刻需要制备成正性光刻胶或负性光刻胶，并且光刻材料能够满足高分辨光刻的要求。式(I)所示化合物通过硫原子为中心原子联接，可以有效提高光刻胶材料的折光率，提高光刻分辨率，同时所述化合物具有更好的溶解性和成膜性。