[发明专利]二氧化钛网状结构修饰的钛基氧化锡锑电极及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201910433442.8 申请日: 2019-05-23
公开(公告)号: CN110040820B 公开(公告)日: 2021-09-21
发明(设计)人: 许卫;许莉;王也 申请(专利权)人: 天津市大陆制氢设备有限公司
主分类号: C25B11/00 分类号: C25B11/00;C02F1/46
代理公司: 天津盛理知识产权代理有限公司 12209 代理人: 李晶
地址: 301600 天*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明涉及一种二氧化钛网状结构修饰的钛基氧化锡锑电极,包括钛基体及催化层,其特征在于:还包括中间层,所述的钛基体经水热合成反应后,在其表面形成二氧化钛网状结构的中间层,随后在该网状结构的中间层上通过脉冲电沉积法及程序升温退火活化法形成氧化锡锑催化层。本发明还涉及一种二氧化钛网状结构修饰的钛基氧化锡锑电极的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:(1)钛基体的预处理;(2)水热法合成二氧化钛网状结构;(3)二氧化钛网状结构氢化处理;(4)脉冲电沉积法制备表面氧化锡锑涂层。本发明设计科学合理,具有稳定性强、催化层不易脱落、有效阻止钛基体腐蚀、延长电极使用寿命、电催化能力强、电极能耗低等优点。
搜索关键词: 氧化 网状结构 修饰 电极 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种二氧化钛网状结构修饰的钛基氧化锡锑电极,包括钛基体及催化层,其特征在于:还包括中间层,所述的钛基体经水热合成反应后,在其表面形成二氧化钛网状结构的中间层,随后在该网状结构的中间层上通过脉冲电沉积法及程序升温退火活化法形成表面氧化锡锑涂层,该表面氧化锡锑涂层即为氧化锡锑催化层。
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