[发明专利]一种旋转支撑装置及MOCVD系统在审
申请号: | 201910439754.X | 申请日: | 2019-05-24 |
公开(公告)号: | CN111979528A | 公开(公告)日: | 2020-11-24 |
发明(设计)人: | 马亮;贾蕾 | 申请(专利权)人: | 东泰高科装备科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C16/46 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 苗青盛;魏雪梅 |
地址: | 102209 北京市昌平*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及MOCVD技术领域,尤其涉及一种旋转支撑装置及MOCVD系统,旋转支撑装置包括旋转平台和固定轴,旋转平台包括支撑平板和连接端,旋转平台与驱动装置连接,连接端的侧壁设有至少一个第一电极,固定轴为管状,固定轴同轴设置于连接端外侧,固定轴的内壁设有至少一个环状的第二电极,一个第二电极与一个第一电极对应,每个第二电极与其对应的第一电极保持电连接。本发明的旋转支撑装置可在加热过程中使加热装置转动,而并非现有技术的托盘旋转,改善晶片衬底表面温度分布的均匀性,提高外延片的良率,同时旋转支撑装置的转动惯量相对较小,旋转支撑更加平稳。使得大尺寸托盘到加热装置各处的距离较易控制,有效改善了晶片衬底的温度均匀性。 | ||
搜索关键词: | 一种 旋转 支撑 装置 mocvd 系统 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的