[发明专利]电磁波屏蔽膜的制造方法及由此方法制造的电磁波屏蔽膜在审

专利信息
申请号: 201910445962.0 申请日: 2014-12-25
公开(公告)号: CN110177450A 公开(公告)日: 2019-08-27
发明(设计)人: 郑光春;赵南富;金道铉;陈锡泌;许裕盛;宋中根 申请(专利权)人: INKTEC株式会社
主分类号: H05K9/00 分类号: H05K9/00
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 宋融冰
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种电磁波屏蔽膜的制造方法及通过该方法制造的电磁波屏蔽膜,该电磁波屏蔽膜可通过包括以下步骤的方法来制造:绝缘层的形成步骤,在第一离型膜上形成绝缘层;金属图案的形成步骤,在所述绝缘层上印刷金属图案;导电性粘合剂层的形成步骤,在第二离型膜上形成导电性粘合剂层;及离型膜的接合步骤,接合所述第一离型膜及所述第二离型膜,从而使所述金属图案与所述导电性粘合剂层彼此相接,由此形成电磁波屏蔽膜。通过本发明的电磁波屏蔽膜的制造方法,能够提高构成屏蔽膜的各层间的附着力,因此耐久性优异,并且还能够提高制造工序的效率。
搜索关键词: 电磁波屏蔽膜 离型膜 绝缘层 导电性粘合剂层 金属图案 制造 接合 附着力 制造工序 屏蔽膜 层间 印刷
【主权项】:
1.一种电磁波屏蔽膜的制造方法,包括以下步骤:绝缘层的形成步骤,在第一离型膜上形成绝缘层;金属图案的形成步骤,在所述绝缘层上印刷金属图案;导电性粘合剂层的形成步骤,在第二离型膜上形成导电性粘合剂层;及离型膜的接合步骤,接合所述第一离型膜及所述第二离型膜,从而使所述金属图案与所述导电性粘合剂层彼此相接,由此形成电磁波屏蔽膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于INKTEC株式会社,未经INKTEC株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910445962.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top