[发明专利]一种多通道缺陷合并分析的方法及系统有效
申请号: | 201910447257.4 | 申请日: | 2019-05-27 |
公开(公告)号: | CN110208284B | 公开(公告)日: | 2021-09-17 |
发明(设计)人: | 秦继昊;张国栋 | 申请(专利权)人: | 武汉中导光电设备有限公司 |
主分类号: | G01N21/95 | 分类号: | G01N21/95;G02F1/13 |
代理公司: | 武汉智权专利代理事务所(特殊普通合伙) 42225 | 代理人: | 张凯 |
地址: | 430000 湖北省*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明公开了一种多通道缺陷合并分析的方法及系统,涉及光学检测技术领域,该方法为:将多个通道检测得到的初始缺陷点列表分成对应各个通道的初始缺陷点子表并存储;分别将每个通道的初始缺陷点子表内且间隔距离小于预设的第一阈值的缺陷点合并,得到各个通道的最终缺陷点子表并存储;将各个通道的最终缺陷点子表间且间隔距离小于预设的第二阈值的缺陷点合并,得到最终缺陷点表并存储,最终缺陷点表中的每个缺陷点包含合并形成该缺陷点的最终缺陷点子表的缺陷点的通道信息;根据单个通道或者多个通道的组合,将最终缺陷点表中的缺陷点进行显示。本发明能显示单个通道或者多个通道组合形成的缺陷点,用户能直观辨别误检缺陷点或者漏检缺陷点。 | ||
搜索关键词: | 一种 通道 缺陷 合并 分析 方法 系统 | ||
【主权项】:
1.一种多通道缺陷合并分析的方法,其特征在于,包括以下步骤:将多个通道检测得到的初始缺陷点列表分成对应各个通道的初始缺陷点子表并存储;分别将每个通道的初始缺陷点子表内且间隔距离小于预设的第一阈值的缺陷点合并,得到各个通道的最终缺陷点子表并存储;将各个通道的最终缺陷点子表间且间隔距离小于预设的第二阈值的缺陷点合并,得到最终缺陷点表并存储,最终缺陷点表中的每个缺陷点包含合并形成该缺陷点的最终缺陷点子表的缺陷点的通道信息;根据单个通道或者多个通道的组合,将最终缺陷点表中的缺陷点进行显示。
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