[发明专利]一种纳米花状NiS@NiCo2 有效
申请号: | 201910447637.8 | 申请日: | 2019-05-27 |
公开(公告)号: | CN110310835B | 公开(公告)日: | 2021-08-06 |
发明(设计)人: | 杨萍;丰丽娜;胡俊 | 申请(专利权)人: | 安徽理工大学 |
主分类号: | H01G11/26 | 分类号: | H01G11/26;H01G11/30;H01G11/86;B82Y30/00 |
代理公司: | 合肥市长远专利代理事务所(普通合伙) 34119 | 代理人: | 刘勇 |
地址: | 230031 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: |
本发明提供了一种以NiO纳米片为基质、负载纳米花状NiS@NiCo |
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搜索关键词: | 一种 纳米 nis nico base sub | ||
【主权项】:
1.一种纳米花状NiS@NiCo2S4微、纳米电极材料,其特征在于:通过简单和低成本的水热法和热处理工艺在泡沫镍上原位生长NiO纳米片阵列。然后采用水热法将NiCo2O4纳米线沉积在NiO纳米片骨架上,形成分层的异质纳米结构。最后,用Na2S水溶液对NiO@NiCo2O4复合材料进行硫化得到纳米花状NiS@NiCo2S4微、纳米电极材料。
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