[发明专利]一种纳米花状NiS@NiCo2有效

专利信息
申请号: 201910447637.8 申请日: 2019-05-27
公开(公告)号: CN110310835B 公开(公告)日: 2021-08-06
发明(设计)人: 杨萍;丰丽娜;胡俊 申请(专利权)人: 安徽理工大学
主分类号: H01G11/26 分类号: H01G11/26;H01G11/30;H01G11/86;B82Y30/00
代理公司: 合肥市长远专利代理事务所(普通合伙) 34119 代理人: 刘勇
地址: 230031 安徽*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明提供了一种以NiO纳米片为基质、负载纳米花状NiS@NiCo2S4微、纳米电极材料,本发明所述的纳米花状NiS@NiCo2S4微、纳米电极材料应用在超级电容器中,具有优良的导电性、高电容和高功率密度等性能。本发明还提供了所述微、纳米复合材料的制备方法,包括以下步骤:(1)泡沫镍的处理;(2)NiO纳米片的制备;(3)NiO@NiCo2O4微、纳米材料的制备(4)NiS@NiCo2S4微、纳米材料的制备;本发明还提供了上述微、纳米复合材料的应用。
搜索关键词: 一种 纳米 nis nico base sub
【主权项】:
1.一种纳米花状NiS@NiCo2S4微、纳米电极材料,其特征在于:通过简单和低成本的水热法和热处理工艺在泡沫镍上原位生长NiO纳米片阵列。然后采用水热法将NiCo2O4纳米线沉积在NiO纳米片骨架上,形成分层的异质纳米结构。最后,用Na2S水溶液对NiO@NiCo2O4复合材料进行硫化得到纳米花状NiS@NiCo2S4微、纳米电极材料。
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