[发明专利]非挥发性存储器结构在审

专利信息
申请号: 201910449969.X 申请日: 2019-05-28
公开(公告)号: CN111952314A 公开(公告)日: 2020-11-17
发明(设计)人: 王子嵩;马晨亮 申请(专利权)人: 力晶积成电子制造股份有限公司
主分类号: H01L27/11568 分类号: H01L27/11568;H01L27/11573
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 陈小雯
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明公开一种非挥发性存储器结构,其包括基底、堆叠结构、导体柱、通道层、电荷存储结构与第二介电层。堆叠结构设置在基底上,且具有开口。堆叠结构包括交替堆叠的多个第一导体层与多个第一介电层。导体柱设置在开口中。通道层设置在堆叠结构与导体柱之间。电荷存储结构设置在堆叠结构与通道层之间。第二介电层设置在通道层与导体柱之间。上述非挥发性存储器结构可有效地提升存储器元件的电性效能及可靠度。
搜索关键词: 挥发性 存储器 结构
【主权项】:
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