[发明专利]一种消像差的液体介质超透镜有效
申请号: | 201910450412.8 | 申请日: | 2019-05-28 |
公开(公告)号: | CN110244452B | 公开(公告)日: | 2020-05-12 |
发明(设计)人: | 李瑞峰;刘涵;付永启 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | G02B26/00 | 分类号: | G02B26/00;G02B1/00;G02B3/12 |
代理公司: | 电子科技大学专利中心 51203 | 代理人: | 吴姗霖 |
地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开了一种消像差的液体介质超透镜,属于微纳光学成像领域。该超透镜包括:从上至下依次设置的上层超表面阵列、下表面镀有ITO导电层的上层超透镜石英基底、高分子聚合物层、上表面镀有ITO导电层的下层超透镜石英基底、下层超表面阵列;高分子聚合物层上附着有低介电常数液体介质,且高分子聚合物层与上层超透镜石英基底之间充满高介电常数液体介质。本发明上层超表面阵列调节入射光波前,经过填充两种液体介质的间隙,形成聚焦所需的球面波,再由下层超表面阵列消除干扰波的影响并输出能够聚焦的透射光。通过外加电压的改变最终控制透射波的波前相位,弥补超表面原有不足,达到消像差的效果,构造了具有广泛应用前景与价值的超透镜光学系统。 | ||
搜索关键词: | 一种 消像差 液体 介质 透镜 | ||
【主权项】:
1.一种消像差的液体介质超透镜,包括:从上至下依次设置的上层超表面阵列、上层超透镜石英基底、高分子聚合物层、下层超透镜石英基底、下层超表面阵列;所述上层超表面阵列,用于调控入射光波前,将入射光的波前按照需求焦距值进行相位调控,形成带像差的类球面波;所述上层超透镜石英基底,用于作为上层超表面阵列的依附模块;所述上层超透镜石英基底下表面镀有第一ITO导电层;所述下层超透镜石英基底上表面镀有第二ITO导电层,第二ITO导电层上设置有高分子聚合物层;所述高分子聚合物层上表面附着有低介电常数液体介质,低介电常数液体介质与高分子聚合物层上表面切角为θ,通过改变θ大小来调控相应空间位置的波前相位;高分子聚合物层与上层超透镜石英基底之间充满高介电常数液体介质,高介电常数液体介质与低介电常数液体介质不相溶;所述下层超表面阵列设置于下层超透镜石英基底下表面,将透射光的波前相位进行修正;所述第一、第二ITO导电层之间加载电压,用于形成高介电常数液体介质与低介电常数液体介质之间的电势差。
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