[发明专利]一种X光散射线拟合校正方法及装置有效

专利信息
申请号: 201910461574.1 申请日: 2019-05-30
公开(公告)号: CN110246096B 公开(公告)日: 2023-03-10
发明(设计)人: 刘德健;叶超;孙凯 申请(专利权)人: 深圳市安健科技股份有限公司
主分类号: G06T5/00 分类号: G06T5/00;G06T7/60
代理公司: 深圳市恒申知识产权事务所(普通合伙) 44312 代理人: 袁文英
地址: 518000 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种X光散射线拟合校正方法及装置,该方法包括:采集X光的原始图像,基于金字塔分层模型从原始图像中提取第N层的低分辨率图像;根据低分辨率图像中各个点光源的亮度值计算初始散射线图的总亮度值,对初始散射线图的所有像素点的总亮度值进行亮度调整,得到第一散射线图;对第一散射线图进行非线性处理,以获取优化后的第二散射线图;对第二散射线图进行插值处理,得到与原始图像具有相同分辨率的第三散射线图,将原始图像与第三散射线图的各个像素点进行差值运算,得到校正后的图像。本申请通过数学运算方式计算,能获取散射线图,以及消除散射线对图像的影响,获取清晰的图像,该方法相对于其他图像处理方法较为简单、易于理解。
搜索关键词: 一种 散射 拟合 校正 方法 装置
【主权项】:
1.一种X光散射线拟合校正方法,其特征在于,所述校正方法包括以下步骤:采集X光的原始图像,基于金字塔分层模型从所述原始图像中提取第N层的低分辨率图像;根据所述低分辨率图像中各个点光源的亮度值确定所述各个点光源对应的照射范围,利用所述照射范围得到对应的所述点光源的照射强度,根据所述照射强度确定所述各个点光源照射对应的照射范围内的各像素点的总亮度值,将所述各像素点的总亮度值作为初始散射线图的总亮度值,对所述初始散射线图的所有像素点的所述总亮度值进行亮度调整,得到包含所有点光源的照射范围的像素点的第一散射线图;对所述第一散射线图进行非线性处理,以获取优化后的第二散射线图;对所述第二散射线图进行插值处理,得到与所述原始图像具有相同分辨率的第三散射线图,将所述原始图像与所述第三散射线图的各个像素点进行差值运算,得到校正后的图像。
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