[发明专利]一种二维二硫化钨薄膜的制备方法有效

专利信息
申请号: 201910462792.7 申请日: 2019-05-30
公开(公告)号: CN110373718B 公开(公告)日: 2020-08-25
发明(设计)人: 吕燕飞;徐竹华;赵士超 申请(专利权)人: 杭州电子科技大学
主分类号: C30B29/46 分类号: C30B29/46;C30B25/00
代理公司: 杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙) 33240 代理人: 杨舟涛
地址: 310018 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种二维二硫化钨薄膜的制备方法,该方法采用硫代硫酸钠固体粉末和二硫化钨固体粉末作为前驱物,通过化学气相沉积法合成了WS2二维单分子/多分子层厚度的单晶材料,其中二硫化钨单晶形貌为三角形、六边形或枝形。本发明将硫代硫酸钠应用到CVD法中来制备WS2晶体材料,降低了化学气相沉积法生长二硫化钨二维薄膜的生长温度,薄膜制备重复性好、晶体结晶质量高。制备的WS2单晶为三角形,六边形和枝晶状,薄膜厚度为1~30个分子层厚度。
搜索关键词: 一种 二维 硫化 薄膜 制备 方法
【主权项】:
1.一种二维二硫化钨薄膜的制备方法,其特征在于:该方法采用硫代硫酸钠固体粉末和二硫化钨固体粉末作为前驱物,通过化学气相沉积法合成了WS2二维单分子/多分子层厚度的单晶材料,其中二硫化钨单晶形貌为三角形、六边形或枝形。
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