[发明专利]耐受高浓度螺旋霉素的厌氧氨氧化颗粒污泥的培养方法有效

专利信息
申请号: 201910465251.X 申请日: 2019-05-30
公开(公告)号: CN110255709B 公开(公告)日: 2021-09-28
发明(设计)人: 范念斯;吴静;赵依恒;余烨颖;何宜俊;金仁村 申请(专利权)人: 杭州师范大学
主分类号: C02F3/28 分类号: C02F3/28;C02F3/34;C02F101/16
代理公司: 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 代理人: 胡红娟
地址: 311121 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种耐受高浓度螺旋霉素的厌氧氨氧化颗粒污泥的培养方法,包括:在厌氧氨氧化反应器进水中投加螺旋霉素,跟踪反应器出水变化;所述进水含有质量浓度比为1:0.9~1.1的亚硝氮和氨氮;根据反应器出水情况停止投加螺旋霉素,等比例降低进水中的氨氮和亚硝氮浓度,然后以等比例梯度增加进水氨氮和亚硝氮浓度的方式恢复反应器的运行性能;待反应器运行性能恢复后,再次投加螺旋霉素,反应器脱氮性能在波动后恢复稳定,完成耐受高浓度螺旋霉素的厌氧氨氧化颗粒污泥的培养。本发明通过“首次暴露——梯度恢复——再次暴露”的方法逐步诱导螺旋霉素抗性基因的变化,从而培育出耐受长期螺旋霉素干扰的厌氧氨氧化颗粒污泥。
搜索关键词: 耐受 浓度 螺旋 霉素 厌氧氨 氧化 颗粒 污泥 培养 方法
【主权项】:
1.一种耐受高浓度螺旋霉素的厌氧氨氧化颗粒污泥的培养方法,包括步骤:(1)首次暴露:在厌氧氨氧化反应器进水中投加螺旋霉素,跟踪反应器出水变化;所述进水含有质量浓度比为1:0.9~1.1的亚硝氮和氨氮;(2)梯度恢复:根据反应器出水情况停止投加螺旋霉素,等比例降低进水中的氨氮和亚硝氮浓度,然后以等比例梯度增加进水氨氮和亚硝氮浓度的方式恢复反应器的运行性能;(3)再次暴露:待反应器运行性能恢复后,再次投加螺旋霉素,反应器脱氮性能在波动后恢复稳定,完成耐受高浓度螺旋霉素的厌氧氨氧化颗粒污泥的培养。
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