[发明专利]单元素多层红外高反膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201910469617.0 | 申请日： | 2019-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN110221368B | 公开（公告）日： | 2020-11-17 |
| 发明（设计）人： | 徐均琪;苏俊宏;吴慎将;惠迎雪;梁海锋;李阳;诗云云 | 申请（专利权）人： | 西安工业大学 |
| 主分类号： | G02B5/08 | 分类号： | G02B5/08;C23C14/35;C23C14/06;C23C14/58 |
| 代理公司： | 西安新思维专利商标事务所有限公司 61114 | 代理人： | 黄秦芳 |
| 地址： | 710032 陕*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： |
本发明涉及一种单元素多层红外高反膜及其制备方法，该膜结构由基底和石墨靶材镀制的多层DLC膜构成，膜系的基本结构为：S/(HL) |
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| 搜索关键词： | 元素 多层 红外 高反膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种单元素多层红外高反膜，其特征在于，由基底和石墨靶材镀制的多层DLC膜构成，膜系的基本结构为：S/(HL)xH/A，其中S为Si基底，H为高折射率的DLC膜，L为低折射率的DLC膜，x为H和L重复镀制的周期数，A为空气。
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