[发明专利]一种离子束刻蚀系统的真空测量工具的保护装置在审
| 申请号： | 201910470430.2 | 申请日： | 2019-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN110132484A | 公开（公告）日： | 2019-08-16 |
| 发明（设计）人： | 李娜;冯伟群;胡冬冬;程实然;陈兆超;侯永刚;王铖熠;许开东 | 申请（专利权）人： | 江苏鲁汶仪器有限公司 |
| 主分类号： | G01L21/30 | 分类号： | G01L21/30 |
| 代理公司： | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人： | 张惠忠 |
| 地址： | 221300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提出一种离子束刻蚀系统的真空测量工具的保护装置，所述离子束刻蚀系统包括反应腔体和用于测量反应腔体的内部真空度真空测量工具，所述反应腔体壁上设置有通气接口，所述真空测量工具连接在通气接口上。所述保护装置包括设置在反应腔体内的遮挡通气接口的阻隔板；所述阻隔板贴近通气接口处的反应腔体内壁，所述通气接口沿其中轴线投影至阻隔板上的投影面位于阻隔板的遮挡面范围内。所述保护装置还包括驱动阻隔板远离或靠近通气接口的推拉机构。本发明通过贴近遮挡通气接口的阻隔板，有效阻隔金属颗粒和离子束；通过推拉机构驱动阻隔板远离或靠近通气接口，防止杂质堵塞阻隔板与反应腔体内壁的间隙，在满足通气要求下保持合适间隙。 | ||
| 搜索关键词： | 通气接口 阻隔板 保护装置 真空测量 离子束刻蚀系统 反应腔 反应腔体 推拉机构 体内 遮挡 驱动 测量反应 合适间隙 金属颗粒 杂质堵塞 离子束 投影面 遮挡面 中轴线 腔体 投影 通气 阻隔 | ||
【主权项】：
1.一种离子束刻蚀系统的真空测量工具的保护装置，所述离子束刻蚀系统包括反应腔体和用于测量反应腔体的内部真空度真空测量工具，所述反应腔体壁上设置有通气接口，所述真空测量工具连接在通气接口上，其特征在于：所述保护装置包括设置在反应腔体内的遮挡通气接口的阻隔板；所述阻隔板贴近通气接口处的反应腔体内壁，所述通气接口沿其中轴线投影至阻隔板上的投影面位于阻隔板的遮挡面范围内。
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