[发明专利]全垂直型Si基GaN UMOSFET功率器件及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201910474496.9 申请日: 2019-05-31
公开(公告)号: CN112018177A 公开(公告)日: 2020-12-01
发明(设计)人: 唐文昕;陈扶;于国浩;张宝顺 申请(专利权)人: 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L21/78;H01L21/336
代理公司: 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256 代理人: 王茹;王锋
地址: 215123 江苏省苏州市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种全垂直型Si基GaN UMOSFET功率器件及其制备方法。所述全垂直型Si基GaN UMOSFET功率器件包括:硅衬底,以及,主要由N+源区层、N漂移层和P+沟道层构成的金属氧化物半导体场效应晶体管结构;所述N+源区层、N漂移层和P+沟道层沿逐渐远离硅衬底的方向依次叠设在硅衬底上;所述硅衬底与N+源区层及漏极电连接,所述P+沟道层与源极电性配合,且所述P+沟道层及N漂移层内分布有与栅极配合的槽状结构。本发明通过电化学方法或激光剥离方法将外延结构的蓝宝石衬底去除,在倒装键合后的Si衬底上的GaN外延结构上制作器件,实现全垂直型Si基GaN UMOSFET;本发明提供的全垂直型Si基GaN UMOSFET充分利用GaN材料高临界电场和高迁移率的同时又降低了器件制备成本,有利于器件的产业化。
搜索关键词: 垂直 si gan umosfet 功率 器件 及其 制备 方法
【主权项】:
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