[发明专利]一种根据规则添加SRAF的方法有效

专利信息
申请号: 201910477251.1 申请日: 2019-06-03
公开(公告)号: CN110187600B 公开(公告)日: 2022-10-25
发明(设计)人: 高澎铮;韦亚一;张利斌 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: G03F1/76 分类号: G03F1/76;G03F1/38;G03F7/20
代理公司: 北京知迪知识产权代理有限公司 11628 代理人: 王胜利
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种根据规则添加SRAF的方法,涉及半导体技术领域,可提高光刻分辨率。该方法包括:获取目标图形,并确定投影区域;根据投影区域选择SRAF规则,并基于SRAF规则在投影区域中添加第一亚分辨率辅助图形;对第一亚分辨率辅助图形进行冲突清理;根据子目标图形的位置、子目标图形的线宽、子目标图形与待形成的第二亚分辨率辅助图形之间的第二预设距离、待形成的第二亚分辨率辅助图形的线宽、以及待形成的第二亚分辨率辅助图形与第一亚分辨率辅助图像之间的第三预设距离,确定生长区域;去除第一亚分辨率辅助图形中位于生长区域的部分;根据子目标图形的位置、以及子目标图形的线宽,在生长区域内形成所述第二亚分辨率辅助图形。
搜索关键词: 一种 根据 规则 添加 sraf 方法
【主权项】:
1.一种根据规则添加SRAF的方法,其特征在于,包括:获取目标图形,并确定投影区域;所述目标图形包括多个子目标图形;根据所述投影区域选择SRAF规则,并基于所述SRAF规则在所述投影区域中添加第一亚分辨率辅助图形;对所述第一亚分辨率辅助图形进行冲突清理,以使得沿与所述子目标图形的延伸方向垂直的方向错开第一预设距离以内的多个所述第一亚分辨率辅助图形重排至同一竖直线上;根据所述子目标图形的位置、所述子目标图形的线宽、所述子目标图形与待形成的第二亚分辨率辅助图形之间的第二预设距离、待形成的所述第二亚分辨率辅助图形的线宽、以及待形成的所述第二亚分辨率辅助图形与所述第一亚分辨率辅助图像之间的第三预设距离,确定生长区域;所述生长区域位于所述子目标图形的两端、且和与其对应的所述子目标图形邻接;去除所述第一亚分辨率辅助图形中位于所述生长区域的部分;根据所述子目标图形的位置、以及所述子目标图形的线宽,在所述生长区域内形成所述第二亚分辨率辅助图形;每个所述生长区域内设有一个所述第二亚分辨率辅助图形;每个所述第二亚分辨率辅助图形与所述子目标图形的一端对应,所述第二亚分辨率辅助图形和与其对应的所述子目标图形的一端正对设置,且其延伸方向和与其对应的所述子目标图形的一端的线宽方向平行;所述第二分辨率辅助图形和与其对应的所述子目标图形正对设置。
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