[发明专利]一种隐身薄膜及其制备方法有效
申请号: | 201910478388.9 | 申请日: | 2019-06-03 |
公开(公告)号: | CN110275228B | 公开(公告)日: | 2021-08-20 |
发明(设计)人: | 郭晓康;郭春才;张志良;朱小军;徐承进 | 申请(专利权)人: | 合肥昊泰新材料科技有限责任公司 |
主分类号: | G02B1/115 | 分类号: | G02B1/115 |
代理公司: | 合肥天明专利事务所(普通合伙) 34115 | 代理人: | 汪贵艳 |
地址: | 230000 安徽省合肥市经开区桃花工*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开了一种隐身薄膜及其制备方法,其由内至外依次为基材、内介质层、反射层和外介质层,其中,所述外介质层为具有高折射率的氧化物,其折射率为2.0~3.0;所述内介质层为具有低折射率的氧化物,其折射率为1.0~1.8。在外介质层采用具有高折射率的氧化物,内介质层采用具有低折射率的氧化物,制得解决了隐身薄膜可实现多波段兼容隐身,同时薄膜热力性能好、膜层结合强度高。 | ||
搜索关键词: | 一种 隐身 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种隐身薄膜,其特征在于,其由内至外依次为基材、内介质层、反射层和外介质层,其中,所述外介质层为具有高折射率的氧化物,其折射率为2.0~3.0;所述内介质层为具有低折射率的氧化物,其折射率为1.0~1.8。
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