[发明专利]用于处理基板的装置和方法有效
| 申请号： | 201910498398.9 | 申请日： | 2019-06-10 |
| 公开（公告）号： | CN110581051B | 公开（公告）日： | 2022-06-17 |
| 发明（设计）人： | 李贞焕;郑庆和 | 申请（专利权）人： | 细美事有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/683 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 韩国忠清南道天安*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于处理基板的装置，其包括工艺腔室、在所述工艺腔室中支承所述基板的支承单元、供应工艺气体的气体供应单元和从所述工艺气体生成等离子体的等离子体源。所述支承单元包括静电吸盘，且所述装置还包括将夹持电压供应至所述静电吸盘的电源，和管理单元，该管理单元反馈控制针对每个工艺施加至电源的电压，并控制所述基板和所述静电吸盘之间供应的传热气体流量。所述管理单元该包括监测所述基板的物理性能变化的第一监测单元。所述管理单元该包括第一控制器，其通过基于监测的性能变化反馈对应于预设参考值的夹持力值来执行控制以补偿所述夹持电压。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 处理 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于处理基板的装置，其中，所述装置包括：/n工艺腔室，其在内部具有处理空间；/n支承单元，其配置为在所述工艺腔室中支承所述基板；/n气体供应单元，其配置为将工艺气体供应至所述处理空间；和/n等离子体源，其配置为从所述工艺气体生成等离子体，/n其中，所述支承单元包括静电吸盘，其配置为使用静电力夹持所述基板，以及/n其中，所述装置还包括：/n电源，其配置为将夹持电压供应至所述静电吸盘；和/n管理单元，其配置为反馈控制针对每个工艺施加至电源的电压，并控制所述基板和所述静电吸盘之间供应的传热气体流量。/n
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