[发明专利]一种用于抛光设备的上定盘晶片剥离装置有效
申请号: | 201910499126.0 | 申请日: | 2019-06-10 |
公开(公告)号: | CN110370153B | 公开(公告)日: | 2021-07-13 |
发明(设计)人: | 朱亮;卢嘉彬;郑丽霞;王旭东;周锋;刘文涛;严浩;吴兵兵;王晓峰;曹建伟 | 申请(专利权)人: | 浙江晶盛机电股份有限公司 |
主分类号: | B24B29/02 | 分类号: | B24B29/02;B24B41/06;B24B41/00;H01L21/683;H01L21/67 |
代理公司: | 杭州中成专利事务所有限公司 33212 | 代理人: | 周世骏 |
地址: | 312300 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明属于半导体电子元器件平面加工领域,特别涉及一种用于抛光设备的上定盘晶片剥离装置。包括水汽连接板;水汽连接板上方设有若干气缸;气缸伸缩杆与气缸安装块相连;气缸安装块块内设有水汽接头和剥离喷头;水汽接头一端与水汽管路相连,另一端与剥离喷头相连;水汽安装板下方设有接液环,接液环设有竖向通孔,通孔内设有塞套,塞套底部与多通接头相连;分液块通过管路与多通接头相连;上定盘上设有若干竖向通孔;剥离塞套固设于通孔内,剥离塞套通过管路与分液块相连。本发明能解决晶片吸附在抛光盘上取片难的问题,能规避晶片由于吸附导致的剥离碎片和掉落碎片及划伤的情况,并且不会由于吸真空和破真空过程中,晶片表面留吸附痕迹。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 抛光 设备 上定盘 晶片 剥离 装置 | ||
【主权项】:
1.一种用于抛光设备的上定盘晶片剥离装置,其特征在于,包括上定盘、水汽供应系统、分液机构和喷液机构;所述水汽供应系统包括水汽连接板、水汽接头与水汽管路;水汽连接板上方沿竖向设有若干气缸;气缸伸缩杆与气缸安装块相连;气缸安装块块内设有水汽接头,气缸安装块底部设有剥离喷头;水汽接头一端与水汽管路相连,另一端与剥离喷头相连;水汽安装板下方设有接液环,接液环通过支撑装置固设于上定盘上;剥离喷头正下方的接液环处设有竖向通孔,通孔内设有塞套,塞套底部与多通接头相连;所述分液机构包括分液块,分液块底部设有若干第二接头,分液块顶端通过管路与多通接头相连;所述上定盘上设有若干竖向通孔;所述喷液机构包括剥离塞套,剥离塞套固设于所述通孔内,剥离塞套顶端连有第一接头,第一接头通过管路与第二接头相连。
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