[发明专利]改善光刻胶与基底粘附度的光刻方法在审
| 申请号： | 201910499184.3 | 申请日： | 2019-06-10 |
| 公开（公告）号： | CN110161803A | 公开（公告）日： | 2019-08-23 |
| 发明（设计）人： | 陈瑶;王波 | 申请（专利权）人： | 浙江水晶光电科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;G03F7/40 |
| 代理公司： | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人： | 李青 |
| 地址： | 318000 浙江省台州市椒*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种改善光刻胶与基底粘附度的光刻方法，涉及光刻工艺技术领域，本发明提供的改善光刻胶与基底粘附度的光刻方法包括对基底进行烘烤；将烘烤后的基底进行匀胶处理；对匀胶后的基底进行曝光处理；对曝光后的基底进行曝光后烘；对曝光后烘的基底进行静置冷却；对基底进行显影。本发明提供的改善光刻胶与基底粘附度的光刻方法无需使用基底表面增粘剂，通过匀胶前对基底的烘烤，以及曝光后的烘烤以及烘烤后的静置冷却，能够有效的提高了基底与光刻胶之间的粘附度，满足工艺要求，无需额外增加设备模组。 | ||
| 搜索关键词： | 基底 光刻胶 粘附度 烘烤 光刻 匀胶 曝光 静置冷却 后烘 工艺要求 光刻工艺 基底表面 曝光处理 增加设备 增粘剂 模组 显影 | ||
【主权项】：
1.一种改善光刻胶与基底粘附度的光刻方法，其特征在于，包括：对基底进行烘烤；将烘烤后的基底进行匀胶处理；对匀胶后的基底进行曝光处理；对曝光后的基底进行曝光后烘；对曝光后烘的基底进行静置冷却；对基底进行显影。
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