[发明专利]一种常温一步制备卤化氧铋纳米片的方法

摘要

本发明公开了一种常温一步制备卤化氧铋纳米片的方法，具体公开了一种在常温20～35℃条件下通过湿化学法利用可溶性铋盐和卤化钠盐或卤化钾盐为主要原料一步制备新型卤化氧铋纳米片光催化材料的方法及其催化应用。本发明卤化氧铋BiOX(X＝Cl、Br、I)纳米片催化剂通过一步法制备，操作工艺简单，种类可控；制备过程在常温20～35℃下进行，无需高温水热/溶剂热以及高温煅烧过程，条件温和，对设备要求低；反应体系中不添加环境不友好的碱类物质以及昂贵的模板剂，经济性高；反应过程基本上无副反应，卤化氧铋的生成率保持在99％以上；制备的卤化氧铋纳米片具有较高的光催化活性，在治理或修复生态环境方面潜能较大。

主权项

1.一种常温一步制备卤化氧铋纳米片的方法，其特征在于，该方法步骤如下：步骤(1)、常温20～35℃下，将可溶性铋盐溶解于溶剂a中，使铋元素的浓度为80～400mM，超声5～10min至可溶性铋盐完全溶解，得透明溶液A；步骤(2)、常温20～35℃下，将可溶性卤化盐溶解于溶剂b中，使卤化盐的浓度为80～400mM，超声5～10min至可溶性卤化盐KX或NaX完全溶解，得透明溶液B；步骤(3)、常温20～35℃下，在搅拌条件下，将B溶液逐滴滴加到A溶液中，形成悬浊液C；步骤(4)、将上述混合物C搅拌1h后，离心，依次用去离子水和无水乙醇洗涤，各洗涤3～4次后，将所得产物置于65～80℃烘箱中18～24h，得到干燥的固体粉末。