[发明专利]感光性元件、阻挡层形成用树脂组合物、抗蚀剂图案的形成方法以及印刷配线板的制造方法有效

专利信息
申请号: 201910501662.X 申请日: 2016-07-20
公开(公告)号: CN110161802B 公开(公告)日: 2022-08-23
发明(设计)人: 粂壮和;小野博史;松村辽 申请(专利权)人: 昭和电工材料株式会社
主分类号: G03F7/11 分类号: G03F7/11;G03F7/004;H05K3/06;H05K3/18
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 钟晶;金鲜英
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种感光性元件、阻挡层形成用树脂组合物、抗蚀剂图案的形成方法以及印刷配线板的制造方法。所述阻挡层形成用树脂组合物用于形成依次具备支撑膜、阻挡层和感光层的感光性元件中的阻挡层,且含有水溶性树脂、碳数大于或等于3的醇类和水。所述感光性元件依次具备支撑膜、阻挡层和感光层,其即使不使用剥离促进剂也能够提高阻挡层与支撑膜的剥离性。
搜索关键词: 感光性 元件 阻挡 形成 树脂 组合 抗蚀剂 图案 方法 以及 印刷 线板 制造
【主权项】:
1.一种阻挡层形成用树脂组合物,其用于形成依次具备支撑膜、阻挡层和感光层的感光性元件中的阻挡层,所述阻挡层形成用树脂组合物含有水溶性树脂、碳数大于或等于3的醇类和水,所述碳数大于或等于3的醇类含有选自由下述化学式(1)~(3)所表示的化合物和下述通式(4)所表示的化合物组成的组中的至少一种,[化5][化6][化7][化8]通式(4)中,R11表示烷基,R12表示亚烷基,R11的基团和R12的基团的碳数之和大于或等于3。
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