[发明专利]曝光头、图像形成装置以及电路板在审
| 申请号： | 201910503524.5 | 申请日： | 2019-06-12 |
| 公开（公告）号： | CN110597038A | 公开（公告）日： | 2019-12-20 |
| 发明（设计）人： | 吉田英史 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03G15/04 | 分类号： | G03G15/04;H05K3/06 |
| 代理公司： | 11038 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 汪晶晶 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本申请涉及曝光头、图像形成装置以及电路板。被配置为使感光鼓暴露于光的曝光头包括：电路板，上面形成有镀层；半导体芯片，设置在镀层上，并且包括被配置为发射用于使感光鼓曝光的光的发光元件；透镜阵列，被配置为将从发光元件发射的光会聚到感光鼓上；以及壳体，透镜阵列和电路板固定到该壳体，其中壳体的一部分和镀层在透镜阵列的光轴方向上彼此抵靠，并且其中发光元件和透镜阵列在光轴方向上彼此相对。 | ||
| 搜索关键词： | 透镜阵列 发光元件 感光鼓 镀层 壳体 电路板 光轴方向 曝光头 配置 图像形成装置 半导体芯片 电路板固定 彼此相对 发射 光会聚 曝光 暴露 申请 | ||
【主权项】：
1.一种曝光头，被配置为使感光鼓暴露于光，其特征在于，所述曝光头包括：/n电路板，上面形成有镀层；/n半导体芯片，设置在所述镀层上，并且包括发光元件，所述发光元件被配置为发射用于使所述感光鼓曝光的光；/n透镜阵列，被配置为将从所述发光元件发射的光会聚到所述感光鼓上；以及/n壳体，所述透镜阵列和所述电路板固定到所述壳体，/n其中所述壳体的一部分和所述镀层在所述透镜阵列的光轴方向上彼此抵靠，以及/n其中所述发光元件和所述透镜阵列在所述光轴方向上彼此相对。/n
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