[发明专利]一种金属氧化物薄膜晶体管器件及其制作方法在审

专利信息
申请号: 201910504642.8 申请日: 2019-06-11
公开(公告)号: CN110212036A 公开(公告)日: 2019-09-06
发明(设计)人: 孙松 申请(专利权)人: 惠科股份有限公司;重庆惠科金渝光电科技有限公司
主分类号: H01L29/786 分类号: H01L29/786;H01L21/34
代理公司: 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 代理人: 胡海国
地址: 518000 广东省深圳市宝安区石岩街道水田村民*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本申请公开了一种金属氧化物薄膜晶体管器件,所述金属氧化物薄膜晶体管器件包括:基板;栅极,设置在所述基板上;绝缘层,沉积在所述栅极上;有源层,覆盖于所述绝缘层上,所述有源层上设置有源极和漏极,所述有源层采用的材料为掺杂锂元素的氧化锌铟;封装层,沉积于所述源极和所述漏极上,以将所述源极和漏极与外部绝缘隔离。本申请还公开了一种金属氧化物薄膜晶体管器件的制作方法。本申请通过采用掺杂锂元素的氧化锌铟制备有源层,掺杂的锂元素可以置换掉有源层中的锌,降低了有源层的载流子浓度,提高了金属氧化物TFT器件的性能。
搜索关键词: 源层 金属氧化物薄膜晶体管 锂元素 漏极 源极 绝缘层 氧化锌铟 基板 沉积 载流子 掺杂 申请 金属氧化物TFT 外部绝缘 掺杂的 封装层 制备 制作 置换 隔离 覆盖
【主权项】:
1.一种金属氧化物薄膜晶体管器件,其特征在于,所述金属氧化物薄膜晶体管器件包括:基板;栅极,设置在所述基板上;绝缘层,沉积在所述栅极上;有源层,覆盖于所述绝缘层上,所述有源层上设置有源极和漏极,所述有源层采用的材料为掺杂锂元素的氧化锌铟;封装层,沉积于所述源极和所述漏极上,以将所述源极和漏极与外部绝缘隔离。
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