[发明专利]成膜装置

摘要

本发明提供一种成膜装置，能够将在同一成膜装置中形成的薄膜的膜质控制为多种多样的膜质。本公开的成膜装置具备：能够进行真空排气的处理容器、下部电极、上部电极、气体供给部、电压施加部以及切换部。在处理容器内，在下部电极载置被处理基板。在处理容器内，上部电极与下部电极相向地配置。气体供给部将用于在上部电极与下部电极之间的处理空间进行等离子体化的成膜原料气体供给到处理空间。电压施加部具有高频电源和直流电源，并向上部电极施加从高频电源和直流电源中的至少一方输出的电压。切换部将向上部电极施加的电压在从高频电源输出的高频电压、从直流电源输出的直流电压、以及将直流电压叠加于高频电压所得到的叠加电压之间进行切换。

主权项

1.一种成膜装置，具备：/n处理容器，其能够进行真空排气；/n下部电极，其在所述处理容器内载置被处理基板；/n上部电极，其在所述处理容器内与所述下部电极相向地配置；/n气体供给部，其将用于在所述上部电极与所述下部电极之间的处理空间进行等离子体化的成膜原料气体供给到所述处理空间；/n电压施加部，其具有高频电源和直流电源，并向所述上部电极施加从所述高频电源和所述直流电源中的至少一方输出的电压；以及/n切换部，其将向所述上部电极施加的电压在从所述高频电源输出的高频电压、从所述直流电源输出的直流电压、以及将所述直流电压叠加于所述高频电压所得到的叠加电压之间进行切换。/n