[发明专利]内腔式磁控溅射镀膜室的装配式结构与方法有效
| 申请号： | 201910507205.1 | 申请日： | 2019-06-12 |
| 公开（公告）号： | CN110195213B | 公开（公告）日： | 2023-10-13 |
| 发明（设计）人： | 李峰;薛道荣;韩成明;李强;刘子毓 | 申请（专利权）人： | 河北道荣新能源科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/56 |
| 代理公司： | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人： | 李林 |
| 地址： | 054000 河北省邢台*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 本发明提供一种内腔式磁控溅射镀膜室的装配式结构与方法，包括内部可供镀膜管通过的连续镀膜室，所述连续镀膜室由外至内分别设有固定套管、环形的磁铁与环形的靶材，所述固定套管的两端设有真空密封阀，并且设有贯通内外的抽气口与布气管；所述靶材具有数个并且沿镀膜室的轴向拼接，相邻的靶材用绝缘条相互隔绝，数个靶材均连接有外部电源；所述磁铁呈片状，在镀膜室的轴向上依次层叠，与各个靶材分别对应布置。本发明可根据需镀膜层的不同要求，设计不同长度的靶材及其组合，然后根据靶材的组成情况，装配于相应长度的固定套管内，而磁铁也可根据靶材长度层叠至相应长度位置，提高内腔式镀膜设备的适应性。 | ||
| 搜索关键词： | 内腔式 磁控溅射 镀膜 装配式 结构 方法 | ||
【主权项】：
1.一种内腔式磁控溅射镀膜室的装配式结构，其特征在于：包括内部可供镀膜管通过的连续镀膜室，所述连续镀膜室由外至内分别设有固定套管、环形的磁铁与环形的靶材，其中：所述固定套管的两端设有真空密封阀，并且设有贯通内外的抽气口与布气管；所述靶材具有数个并且沿镀膜室的轴向拼接，相邻的靶材用绝缘条相互隔绝，数个靶材均连接有外部电源；所述磁铁呈片状，在镀膜室的轴向上依次层叠，与各个靶材分别对应布置。
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