[发明专利]光蚀刻设备的控制方法及光蚀刻设备在审
| 申请号： | 201910508211.9 | 申请日： | 2019-06-12 |
| 公开（公告）号： | CN110262185A | 公开（公告）日： | 2019-09-20 |
| 发明（设计）人： | 潘柏松 | 申请（专利权）人： | 北海惠科光电技术有限公司;重庆惠科金渝光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/80 | 分类号： | G03F1/80 |
| 代理公司： | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 | 代理人： | 胡海国 |
| 地址： | 536000 广西壮族自治区北海市工业园区北海大*** | 国省代码： | 广西;45 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种光蚀刻设备的控制方法，包括以下步骤：获取待加工物料的物料信息及光蚀刻设备上的加工光罩的第一光罩编号，所述物料信息包括所述待加工物料对应的加工光罩的第二光罩编号以及加工参数；在所述第一光罩编号与所述第二光罩编号不相同时，将所述光蚀刻设备上的加工光罩更换为所述待加工物料对应的加工光罩；控制所述光蚀刻设备根据所述加工参数加工所述待加工物料。本发明还公开了一种光蚀刻设备，达成了提高光蚀刻设备的生产效率的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 光蚀刻 光罩 加工物料 加工 加工参数 物料信息 生产效率 | ||
【主权项】：
1.一种光蚀刻设备的控制方法，其特征在于，所述光蚀刻设备的控制方法包括以下步骤：获取待加工物料的物料信息及光蚀刻设备上的加工光罩的第一光罩编号，所述物料信息包括所述待加工物料对应的加工光罩的第二光罩编号以及加工参数；在所述第一光罩编号与所述第二光罩编号不相同时，将所述光蚀刻设备上的加工光罩更换为所述待加工物料对应的加工光罩；控制所述光蚀刻设备根据所述加工参数加工所述待加工物料。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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