[发明专利]处理系统有效
| 申请号： | 201910510003.2 | 申请日： | 2015-09-03 |
| 公开（公告）号： | CN110297403B | 公开（公告）日： | 2023-07-28 |
| 发明（设计）人： | 鬼头义昭;加藤正纪;奈良圭;堀正和 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30;G03F7/24;G03F7/16;G03F9/00;H01L21/67;H01L21/677;B65H23/188;B65H20/34;B65H20/24;B65H20/02;B65H18/10 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 王涛;汤在彦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供提供一种即使是在以任一处理装置对片状基板实际实施的处理的状态与目标的处理状态不同时，亦能在无需停止制造系统全体的情形下，进行电子元件的制造的处理系统及元件制造方法。一种将长条的可挠性片状基板(P)沿长条方向依序搬送至第1～第3处理装置(PR2～PR4)的各个，以在片状基板(P)形成既定图案的处理系统(10)，第1～第3处理装置(PR2～PR4)依据设定于各个处理装置的设定条件对片状基板(P)施以既定处理，在第1～第3处理装置(PR2～PR4)的各个中对片状基板(P)实施的实处理状态中的至少一者相对目标的处理状态呈现处理误差(E)的情形时，使呈现处理误差(E)的设定条件以外的其他设定条件因应处理误差(E)变化。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 系统 | ||
【主权项】：
1.一种处理系统，将长条的可挠性片状基板沿长条方向依序搬送至由控制装置所管理的多个处理装置的各个，据以在该片状基板形成电子元件，其具备：第1处理装置，将该片状基板往长条方向搬入，于该片状基板的表面以成为由该控制装置设定为目标的目标膜厚的方式形成感光性功能层后将该片状基板搬出；第2处理装置，通过对应于该电子元件的图案的光能以成为由该控制装置设定为目标的目标曝光量的方式，将从该第1处理装置搬出的该片状基板的该感光性功能层曝光后将该片状基板搬出；以及测量装置，测量以该第1处理装置形成的该感光性功能层厚度的变化，该控制装置，在通过该第1处理装置或该第2处理装置对该片状基板施以实处理的状态中，控制该第2处理装置，以使于该片状基板的该感光性功能层的曝光时设定的该目标曝光量，根据以该测量装置测量的该感光性功能层厚度的测量值而变化。
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