[发明专利]存储器元件的结构在审
| 申请号： | 201910510488.5 | 申请日： | 2019-06-13 |
| 公开（公告）号： | CN112086510A | 公开（公告）日： | 2020-12-15 |
| 发明（设计）人： | 易亮;李志国;任驰;赵秋吉;杜文杰 | 申请（专利权）人： | 联华电子股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L29/423 | 分类号： | H01L29/423;H01L27/11521 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 陈小雯 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开一种存储器元件的结构，其包括沟槽隔离线在基板中延伸在第一方向。有源区域在所述基板中且在相邻两个所述沟槽隔离线之间。介电层设置在所述有源区域上。浮置栅对应存储单元设置在所述介电层上，位于相邻两个所述沟槽隔离线之间。所述浮置栅有第一凸出部，由所述浮置栅的侧壁在所述第一方向往外延伸。第一绝缘层跨过所述浮置栅及所述沟槽隔离线。控制栅线设置在所述第一绝缘层上，在所述浮置栅上方，延伸于第二方向与所述第一方向交叉。所述控制栅线有第二凸出部，对应地叠置在所述浮置栅的第一凸出部的上方。 | ||
| 搜索关键词： | 存储器 元件 结构 | ||
【主权项】：
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