[发明专利]掩膜板组件及其制作方法、像素生成方法在审
| 申请号： | 201910511244.9 | 申请日： | 2019-06-13 |
| 公开（公告）号： | CN110172666A | 公开（公告）日： | 2019-08-27 |
| 发明（设计）人： | 丁渭渭;徐鹏;嵇凤丽 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人： | 王辉;阚梓瑄 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及显示技术领域，提出一种掩膜板组件及其制作方法、像素生成方法，该掩膜板组件包括：安装框体和多个掩膜板，多个掩膜板固定设置于所述安装框体上，且沿第一方向间隔分布；其中，多个所述掩膜板共同形成一掩膜图像，所述掩膜图像形心两侧的所述掩膜板偏离其预设的掩膜位置。本公开提供的掩膜板组件可以实现像素单元中有机发光材料的精确蒸镀。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜板 安装框体 像素生成 掩膜图像 有机发光材料 方向间隔 固定设置 像素单元 组件包括 形心 掩膜 预设 蒸镀 制作 偏离 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜板组件，其特征在于，包括：安装框体；多个掩膜板，固定设置于所述安装框体上，且沿第一方向间隔分布；其中，多个所述掩膜板共同形成一掩膜图像，所述掩膜图像形心两侧的所述掩膜板偏离其预设的掩膜位置。
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