[发明专利]MEMS隔膜结构体及其制造方法在审
| 申请号： | 201910515844.2 | 申请日： | 2019-06-14 |
| 公开（公告）号： | CN111232916A | 公开（公告）日： | 2020-06-05 |
| 发明（设计）人： | 李秉周;林富泽 | 申请（专利权）人： | 韩国科学技术院 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00;B81B7/00 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 太香花;崔龙铉 |
| 地址： | 韩国大*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种MEMS隔膜结构体制造方法，该方法包括下列步骤：在硅基板上形成氧化硅薄膜堤结构体；沉积粘结层后形成牺牲层；在所述牺牲层上沉积表面保护膜；蚀刻所述表面保护膜与牺牲层而在氧化硅薄膜堤结构体上形成1列至3列沟槽；在所述1列至3列沟槽内部与牺牲层的表面保护膜上沉积支持膜而形成隔膜；及除掉沉积在所述1列的支持膜内部的牺牲层而形成中空空间。 | ||
| 搜索关键词： | mems 隔膜 结构 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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