[发明专利]一种非晶氧化物薄膜器件及其制备方法有效
申请号: | 201910516845.9 | 申请日: | 2019-06-14 |
公开(公告)号: | CN110190134B | 公开(公告)日: | 2022-06-24 |
发明(设计)人: | 刘潮锋;唐新桂 | 申请(专利权)人: | 广东工业大学 |
主分类号: | H01L29/861 | 分类号: | H01L29/861;H01L21/329 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 张春水;唐京桥 |
地址: | 510060 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: |
本发明属于电子设备的技术领域,尤其涉及一种非晶氧化物薄膜器件及其制备方法。本发明提供了一种非晶氧化物薄膜器件,以玻璃基片为基底层,在所述玻璃基片上物理气相沉积Hf靶材得到HfO |
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搜索关键词: | 一种 氧化物 薄膜 器件 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种非晶氧化物薄膜器件,其特征在于,以玻璃基片为基底层,在所述玻璃基片上物理气相沉积Hf靶材得到HfO2薄膜,形成产品1,将所述产品在500‑600℃条件下退火,形成产品2,在所述产品2的HfO2薄膜的表面及没有沉积HfO2薄膜的玻璃基片镀电极。
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